PATENTES

  • 1

    COSTA, R. E. O.Brasileiro, FranciscoLEMOS FILHO, G.SOUSA, D. M. T. DE . SISTEMA PARA MONTAGEM E OPERAÇÃO DE INFRAESTRUTURAS COMPUTACIONAIS DE ALTA VAZÃO PARA A EXECUÇÃO DE PROGRAMAS UTILIZANDO DISPOSITIVOS ORGANIZADOS EM REDES DE COMUNICAÇÃO UM-PARA-MUITOS, 2013. Categoria: Outra. País: Brasil. Natureza: Patente de Invenção. Número do registro: BR1020130272558. Data de depósito: 04/10/2013. Data de concessão: 31/01/2014. Resumo: A presente patente de invenção refere-se a um processo e a uma arquitetura que viabiliza a montagem e operação de infraestruturas computacionais dinâmicas de alta vazão de uso geral (como, por exemplo, o processamento de aplicações paralelizáveis) em qualquer contexto que reúna dispositivos computacionais com capacidade ociosa (por exemplo, servidores, computadores pessoais, tablets, telefones celulares, receptores de TV Digital etc) e que suportem comunicação na modalidade de um-para-muitos com um nó central (por exemplo, redes de broadcast)..

  • 2

    Assireu, A. T.Assireu, A. T.ITAJUBA, U. F.TIAGO FILHO, G. L.Freitas, Ramon Morais . 'Sistema flutuante móvel para prospecção de potencial eólico em sistemas aquáticos', 2012. Categoria: Produto. País: Brasil. Natureza: Patente de Invenção. Número do registro: BR1020120054876. Data de depósito: 12/03/2012. Resumo: Sistema metálico e flutuante para estabilização de estruturas de grande e pequeno porte sobre sistema aqáticos.

    agrometeorologia;energias renovaveis;anemometria

  • 3

    ITAJUBA, U. F.Assireu, A.T.TIAGO FILHO, G. L.FREITAS, R. M.MENDONCA, J. C. . Sistema flutuante móvel para prospecção de potencial eólico em sistemas aquáticos, 2012. Categoria: Produto. País: Brasil. Natureza: Patente de Invenção. Número do registro: BR1020120054876. Data de depósito: 12/03/2012.

  • 4

      WALDINEI ROSA MONTEIROJOSÉ AUGUSTO JORGE RODRIGUESVICTOR TEIXEIRA DA SILVAWILMA DE ARAUJO GONZALEZ . PROCESSO PARA OBTENÇÃO DE PRECURSOR DE ALUMINA, PRECURSOR DE ALUMINA E PROCESSO PARA OBTENÇÃO DE ALUMINA, 2011. Categoria: Processo para Obtenção de Precursor de Alumina, Precursor de Alumina e Processo para Obtenção de Alumina. Esta invenção relata um precursor de materiais à base de aluminas com pequeno tamanho de partícula, bem como um método de obtenção deste precursor. O precursor é preparado a partir de um sal de alumínio, o qual passa pela fase hidróxido até a obtenção de um material em fase líquida com propriedades ácidas, a partir do qual é gelificada pela ação de um agente com características básicas. Durante a etapa de gelificação são incluídos dopantes, espécies químicas e/ou direcionadores (templates). Espécies metálicas nanoestruturadas são obtidas na superfície desta alumina a partir da secagem do gel obtido e conveniente tratamento térmico ou a partir da impregnação da alumina obtida a partir desta técnica.. País: Brasil. Natureza: Patente de Invenção. Número do registro: PI0909476. Data de depósito: 01/12/2009. Data de concessão: 19/07/2011.

  • 5

    BRAGA, N. A.FERREIRA, N. G.BALDAN, M. R.CAIRO, C. A. A. . PROCESSO PARA DEPOSIÇÃO DE FILMES DE DIAMANTE-CVD COM CRESCIMENTO EM PROFUNDIDADE SOBRE AS SUPERFÍCIES EXTERNAS E INTERNAS DE TITÂNIO TRIDIMENSIONALMENTE POROSO E ELETRODO DE TITÂNIO TRIDIMENSIONALMENTE POROSO, 2009. Categoria: Processo. País: Brasil. Natureza: Patente de Invenção. Número do registro: PI0901543. Data de depósito: 15/04/2009. Data de concessão: 04/01/2011. Resumo: PROCESSO PARA DEPOSIÇÃO DE FILMES DE DIAMANTE CVD COM CRESCIMENTO EM PROFUNDIDADE SOBRE AS SUPERFÍCIES EXTERNAS E INTERNAS DE TITANIO TRIDIMENSIONALMENTE POROSO E ELETRODO DE TITANIO TRIDIMENSIONALMENTE POROSO. A presente invenção refere-se a um processo utilizado para a deposição de uma camada de filme de diamante-CVD sobre um material tridimensionalmente poroso, sendo usado um substrato de titânio e de liga de titânio como o referido material tridimensionalmente poroso, contendo poros e planos externos e internos, abertos e interconectados, definindo após o crescimento em profundidade, uma superfície adiamantada em peça única, bem como aos eletrodos tridimensionalmente porosos de titânio e de liga de titânio obtidos por meio do referido processo..

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